Le transistor MOS, Fascicule 2. Amplification

dc.contributor.authorBrahami, Mohammed Mostafa
dc.contributor.otherZerguerras, Ahmed, Directeur de thèse
dc.date.accessioned2021-02-28T14:44:39Z
dc.date.available2021-02-28T14:44:39Z
dc.date.issued1975
dc.descriptionMémoire de Projet de Fin d’Études : Génie Electrique : Alger, École Nationale Polytechnique : 1975. - Génie Electrique voir aussi : Electrotechnique ou Automatiquefr_FR
dc.description.abstractLa présente étude essaye de faire une description rapide des diverses technologies et de développer par la suite quelques technologies de fabrication des CI/MOS. La plupart sont fondés sur le procédé planar, inventé par Fairfild en 1960, et possèdent beaucoup de traits communs.fr_FR
dc.identifier.otherPA00475(1)
dc.identifier.urihttps://repository.enp.edu.dz/handle/123456789/8533
dc.language.isofrfr_FR
dc.subjectTransistor MOSfr_FR
dc.subjectSignal faiblefr_FR
dc.subjectBruit
dc.subjectAmplification de puissance
dc.subjectAmplification audio fréquence
dc.subjectTetrode MOS pour bande UHF
dc.titleLe transistor MOS, Fascicule 2. Amplificationfr_FR
dc.typeThesisfr_FR

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